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0519-85100231

技術資料

TECHNICAL INFORMATION

超聲相控陣技術

2011年03月15日

超聲相控陣成像技術是通過控制換能器陣列中各陣元的激勵(或接收)脈沖的時間延遲,改變由各陣元發(fā)射(或接收)聲波到達(或來自)物體內某點時的相位關系,實現(xiàn)聚焦點和聲束方位的變化,完成聲成像的技術。由于相控陣陣元的延遲時間可動態(tài)改變,所以使用超聲相控陣探頭探傷主要是利用它的聲束角度可控和可動態(tài)聚焦兩大特點。

超聲相控陣中的每個陣元被相同脈沖采用不同延遲時間激發(fā),通過控制延遲時間控制偏轉角度和焦點。實際上,焦點的快速偏轉使得對試件實施二維成像成為可能。

 

超聲相控陣檢測技術具有以下的特點:

(1)生成可控的聲束角度和聚焦深度,實現(xiàn)了復雜結構件和盲區(qū)位置缺陷的檢測。

(2)通過局部晶片單元組合實現(xiàn)聲場控制,可實現(xiàn)高速電子掃描;配置機械夾具,可對試件進行高速、全方位和多角度檢測。

(3)采用同樣的脈沖電壓驅動每個陣列單元,聚焦區(qū)域的實際聲場強度遠大于常規(guī)的超聲波檢測技術,從而對于相同聲衰減特性的材料可以使用較高的檢測頻率。


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